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中芯國際:14nm良率達業界水準、先進工藝已有10多款芯片流片

科技新聞 / 20 11 月, 2020 /

中芯國際:14nm良率達業界水準、先進工藝已有10多款芯片流片

日前,中芯國際聯席CEO梁孟鬆博士在投資者調研會議上透漏了公司最新進展,特別是在先進工藝上的最新情況。

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樑博士表示,14納米在去年第四季度進入量產,良率已達業界量產水準。隨着我們展現出的研發執行能力,客戶對中芯國際技術的信心也在逐步增強,我們將持續提升產品和服務競爭力,引入更多的海內外客戶。

我們第二代先進工藝技術n+1正在穩步地推進中,n+1正在做客戶產品驗證,目前進入小量試產,產品應用主要爲高性能運算。

相對於第一代先進技術,第二代技術平臺以低成本客製化爲導向,第二代相較於14納米,性能提高20%,功率減少57%,邏輯面積減少63%,集成系統面積減少55%。

總體來說,我們正在與國內和海外客戶合作10多個先進工藝流片項目,包含14納米及更先進工藝技術。

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樑博士表示,我們相信,隨着5G、物聯網、教育和工作場所的資訊數位化的興起,集成電路行業將涌現巨大的市場機遇。

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爲了推動公司的創新與發展,我們將持續推進研發工作,來服務並滿足客戶需求和不斷增長的數字消費市場,新專案、新節點的開展需要時間,我們將一步一腳印地穩步開發先進工藝技術 。

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